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キーワード “分布” に対する結果 “6041”件139ページ目
)、ルチル型TiO2(関東化学)、 ZrO2（関東化学）、ZnO（和光純薬工業）、 SiC（大平洋ランダム）を用いた。 また、各誘電セラミックスの粒度分布はレーザー回折式粒度分布測定装置（SALD-3100、島津製作所）を用いて測定した。 各誘電セラミックスの比誘電率の文献値及
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ポンプ集菌用電源制御盤 CFユニット蓋 ３結果及び考察 3.1溶存イオンの影響 Gouy-Chapman一般に荷電粒子の電位分布は、 の拡散重層のモデルが適用され、式( )が成り21 立つ。 すなわち、ゼータ電位の絶対値はイオン強度に対して指数関数的に減
https://www.pref.saitama.lg.jp/documents/143013/2004_101s.pdf種別：pdf サイズ：233.341KB
クル干渉法（，位相解析，マイクロスコープDESPI） １はじめに物体の変形から破壊に至る過程についての研究では、歪みの分布や量の変化を測定し、定量的に解析することが必要である。 近年半導体プロセスを援用したマイクロマシンの研究
https://www.pref.saitama.lg.jp/documents/143013/2004_208d.pdf種別：pdf サイズ：545.847KB
を図るため超臨界射出成形機を使用し、窒素ガスを発泡剤とする発泡成形を行った。 射出成形機キャビティ面圧力分布変化と寸法精度のにおける射出体積、射出容量を変化させ金型内関係について検討した。 その結果、射出率を下げ、射
https://www.pref.saitama.lg.jp/documents/143013/2004_210d.pdf種別：pdf サイズ：332.972KB
を用いた。 炭酸カルシウムを主成分とするもので、μ150 以下の微粒子で構成されている（図１。 ） 図１廃石灰の粒度分布 2.1.2廃硝酸廃硝酸は化学工業やプリント基板製造業から排出されるものを回収し用いた（表１。 試料は）C 硝酸を銅でに
https://www.pref.saitama.lg.jp/documents/143013/2004_214f.pdf種別：pdf サイズ：604.065KB
玉県産業技術総合センター研究報告第３巻（2005） に示すとおりであり、画面の左下にセンサ部位の下面における圧力分布が表示され、画面の右下にセンサ部位の上面における圧力分布が表示される。 また、画面の右上に表示されている三
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直線となったことが視覚的に確認できた。 本装置は斜め座りの矯正に効果があることが確認できた。 3.2.2体圧分布測定本装置の作動前と作動後について、座面部分の体圧分布を測定した。 測定には、体圧分布測定装 NEC 11置（株）三栄）を使
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る微粒子を含む液中で電場を与えると、微粒子が陽極に移動する現象である。 これにより、微粒子が高密度で均一に分布した砥石が作製できる。 1) 3.2砥粒及び結合材砥粒にはシリカ微粒子（粒径μ）を使用1m した。 シリカは加工対象物と
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試料を蛍光X線分析装置（日本電子社製： ）によりその成分を分析した。 分析結果JSX-3200 を図２に示す。 粒度は、粒度分布測定装置（島津 SALD-3100 250ppm製作所社製：を使用して約）、 に調整した試料（）で測定した。 500mL 図２回収スラッジの成分比 2.3ろ過材ろ過
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グ結果を図４EPMAによる断面マッピング結果図５EPMA断面マッピング結果（高倍率） 図４に示す。 各金属はそれぞれ層状に分布しているような結果となった。 ここではで粒状になっていたSEM 部分をさらに倍率を上げ、観察することとした。 Aその
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