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来、成形品内部構造の観察には、破断面のSEM観察が行われてきたが3)、近年では非破壊検査法のX線CTを用いたセルの分布や形状の詳細な観察が試みられている。 しかし、こうした試みは、一部の押出成形4)及び、化学発泡剤による射出発

https://www.pref.saitama.lg.jp/documents/143011/r10.pdf種別：pdf サイズ：486.272KB

を型に流し込んで成型して焼結する方法が一般的である。 しかし、これらの方法では砥粒の凝集などの問題もあり、分布の均一な仕上げ用砥石を作製する事が困難である。 超精密研磨では、砥粒が塊になって脱落するとスクラッチを生

https://www.pref.saitama.lg.jp/documents/143011/r12.pdf種別：pdf サイズ：633.928KB

る。 0.1dBは温度変化にして1℃に相当するため誤差要因として無視できない。 実測した結果PDL は0.01dBから0.07dBに分布しており、図８のように温度にして0.1℃から0.7℃の測定誤差となり1℃以下に収まっている。 0 2 4 6 8 10 12 14 0 0.1 0.

https://www.pref.saitama.lg.jp/documents/143011/r16.pdf種別：pdf サイズ：705.536KB

)、ルチル型TiO2(関東化学)、 ZrO2（関東化学）、ZnO（和光純薬工業）、 SiC（大平洋ランダム）を用いた。 また、各誘電セラミックスの粒度分布はレーザー回折式粒度分布測定装置（SALD-3100、島津製作所）を用いて測定した。 各誘電セラミックスの比誘電率の文献値及

https://www.pref.saitama.lg.jp/documents/143012/12-09pp.pdf種別：pdf サイズ：419.068KB

)、ルチル型TiO2(関東化学)、 ZrO2（関東化学）、ZnO（和光純薬工業）、 SiC（大平洋ランダム）を用いた。 また、各誘電セラミックスの粒度分布はレーザー回折式粒度分布測定装置（SALD-3100、島津製作所）を用いて測定した。 各誘電セラミックスの比誘電率の文献値及

https://www.pref.saitama.lg.jp/documents/143012/h24rscb-11.pdf種別：pdf サイズ：6572.3KB

ポンプ集菌用電源制御盤 CFユニット蓋 ３結果及び考察 3.1溶存イオンの影響 Gouy-Chapman一般に荷電粒子の電位分布は、 の拡散重層のモデルが適用され、式( )が成り21 立つ。 すなわち、ゼータ電位の絶対値はイオン強度に対して指数関数的に減

https://www.pref.saitama.lg.jp/documents/143013/2004_101s.pdf種別：pdf サイズ：233.341KB

クル干渉法（，位相解析，マイクロスコープDESPI） １はじめに物体の変形から破壊に至る過程についての研究では、歪みの分布や量の変化を測定し、定量的に解析することが必要である。 近年半導体プロセスを援用したマイクロマシンの研究

https://www.pref.saitama.lg.jp/documents/143013/2004_208d.pdf種別：pdf サイズ：545.847KB

を図るため超臨界射出成形機を使用し、窒素ガスを発泡剤とする発泡成形を行った。 射出成形機キャビティ面圧力分布変化と寸法精度のにおける射出体積、射出容量を変化させ金型内関係について検討した。 その結果、射出率を下げ、射

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を用いた。 炭酸カルシウムを主成分とするもので、μ150 以下の微粒子で構成されている（図１。 ） 図１廃石灰の粒度分布 2.1.2廃硝酸廃硝酸は化学工業やプリント基板製造業から排出されるものを回収し用いた（表１。 試料は）C 硝酸を銅でに

https://www.pref.saitama.lg.jp/documents/143013/2004_214f.pdf種別：pdf サイズ：604.065KB

玉県産業技術総合センター研究報告第３巻（2005） に示すとおりであり、画面の左下にセンサ部位の下面における圧力分布が表示され、画面の右下にセンサ部位の上面における圧力分布が表示される。 また、画面の右上に表示されている三

https://www.pref.saitama.lg.jp/documents/143013/2004_304c.pdf種別：pdf サイズ：309.944KB