アリオス株式会社

PR事項

『真空技術とプラズマ技術で社会に貢献する-ARIOS-』

特記事項

○2010年 JST〈A-STEP (FS)シーズ顕在化タイプ〉に採択
「CVD単結晶ダイヤモンド(111)自立基板の開発」
○2013年 JST〈A-STEP ハイリスク挑戦タイプ〉に採択
「半導体ダイヤモンドの開発」
○2016年 JST〈戦略的イノベーション創出プログラム〉に参画　
「ポリマーナノ光ファイバーによる量子フォトニクス情報通信技術の開発」
○2020年 表面技術協会 技術賞受賞
「高密度プラズマによる高性能・高生産性を両立したDLC成膜技術および装置の開発」
○2021年 日本質量分析学会 会誌賞受賞
○真空・プラズマ技術及びメカトロニクス技術を活かしロボット関連事業の高度化をサポートします。

基本情報

代表者	鈴木　浩明
窓口担当	鈴木　浩明
事業内容	真空機器、理化学機器の設計・製造・販売
主要製品	プラズマ・ラジカル・イオン源、プラズマ処理装置、成膜装置、研究開発用実験装置
所在地	東京都昭島市武蔵野3-2-20
電話／ファックス番号	042-546-4811／042-546-4814
ホームページ	アリオス株式会社
資本金	15百万円
設立年月	1972年8月
売上	673百万円
従業員数	35人